Đèn Thủy Ngân Áp Suất Cao (Hg)

Có hai mô hình đèn Hg áp suất cao: một hỗ trợ các wafer lên đến 200 mm (8") và mô hình khác hỗ trợ các wafer lên đến 300 mm (12"). Các hệ thống xử lý UV này cung cấp chiếu xạ đồng đều cho toàn bộ khu vực của phôi quay.

Hơn nữa, các hệ thống xử lý UV mô hình đèn Hg này được trang bị chức năng thổi khí N2 độc quyền, hiệu quả cao, lưu lượng thấp. Điều này cho phép sử dụng mức N2 thấp hơn đáng kể so với các hệ thống hiện có, đồng thời đảm bảo độ thay thế phù hợp.

Những đặc điểm này không chỉ góp phần giảm chi phí vận hành bằng cách giảm tiêu thụ điện và khí.

Chúng còn cải thiện hiệu quả của quá trình sản xuất tổng thể bằng cách giảm chi phí hệ thống và tối thiểu hóa việc sử dụng diện tích sàn phòng sạch quý giá.

(Các đặc điểm trên đang chờ cấp bằng sáng chế)

Các mô hình có sẵn:

Hỗ trợ wafer lên đến 200 mm (8")

Mô hình: UVC-408

Kích thước: 400(W)×665(D)×435(H)

Hỗ trợ wafer lên đến 300 mm (12")

Mô hình: UVC-512

Kích thước: 650(W)×800(D)×980(H)